誠峰20年專注等離子清洗技術研發
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設備參數
應用領域
應用范圍：
等離子表面處理儀主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作，提高粘結力和鍵合能力，另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵，使其具備優良的使用
-
- 商品名稱: CRF-APO-PW
- 商品編號: CRF-APO-PW
- Plasma產品名稱: Plasma
采用PFC全橋數字式等離子電源，輸出功率穩定，抗干擾能力強，反應迅速；<br> 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產品和處理環境；<br> 設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節省客戶使用空間； <br> 可ln-Line式安裝于客戶設備產線中，減少客戶投入成本； <br> 使用壽命長，保養維修成本低，便于客戶成本控制；
應用范圍：
等離子表面處理儀主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作，提高粘結力和鍵合能力，另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵，使其具備優良的使用
關鍵詞:- CRF-APO-PW
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等離子表面處理儀主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作，提高粘結力和鍵合能力，另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵，使其具備優良的使用性能。
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名稱
（Name）
噴射型AP等離子處理系統
（Jet type plasma processing system）
等離子電源型號
（Plasma power model）
CRF-APO-PW
電源
（Power supply）
220V/AC,50/60Hz
功率
（Power）
600-1000W/25KHz
（Option）
內部控制模式
（Internal control mode）
數字控制
外部控制模式
（External control mode）
RS485/RS232、模擬通訊口、 啟停I/O
工作氣體
（Gas）
Compressed Air （0.4mpa）/N2（0.2mpa）
電源重量
（Power weight）
10kg
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- 商品名稱: CRF-APO-PW
- 商品編號: CRF-APO-PW
- Plasma產品名稱: Plasma
采用PFC全橋數字式等離子電源，輸出功率穩定，抗干擾能力強，反應迅速；<br> 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產品和處理環境；<br> 設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節省客戶使用空間； <br> 可ln-Line式安裝于客戶設備產線中，減少客戶投入成本； <br> 使用壽命長，保養維修成本低，便于客戶成本控制；
應用范圍：
等離子表面處理儀主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作，提高粘結力和鍵合能力，另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵，使其具備優良的使用
關鍵詞:- CRF-APO-PW
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等離子表面處理儀主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；連接器表面清洗；通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。
等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作，提高粘結力和鍵合能力，另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵，使其具備優良的使用性能。
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名稱
（Name）
噴射型AP等離子處理系統
（Jet type plasma processing system）
等離子電源型號
（Plasma power model）
CRF-APO-PW
電源
（Power supply）
220V/AC,50/60Hz
功率
（Power）
600-1000W/25KHz
（Option）
內部控制模式
（Internal control mode）
數字控制
外部控制模式
（External control mode）
RS485/RS232、模擬通訊口、 啟停I/O
工作氣體
（Gas）
Compressed Air （0.4mpa）/N2（0.2mpa）
電源重量
（Power weight）
10kg
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