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發布時間：
2020-06-10
【文章導讀】 使用等離子體技術，對材料表面進行轟擊，可有效去除表面污染物，使工件表面親水性大大提高。清洗后的水滴夾角小于5度，為下道工序的進行奠定良好基礎。
玻璃基板：
使用全自動等離子清洗設備，對材料表面進行轟擊，可有效去除表面污染物，使工件表面親水性大大提高。清洗后的水滴夾角小于5度，為下道工序的進行奠定良好基礎。
陽極表面改性：
用等離子表面處理器技對ITO陽極進行表面改性，可有效優化其表面化學組成，大大降低方塊電阻，從而有效提高能量轉換效率，改善器件的光伏性能。
涂保護膜前處理：
硅片表面非常光亮，會反射掉大量的太陽光。因此，在其上沉積一層反射系數非常小的氮化硅保護膜是非常必要的。通過采用等離子設備等離子體技術，可活化硅片表面，大大提高其表面附著力。
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